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甘肃庆阳兰州臭氧发生器在半导体领域有两大应用

文章出处:gs.jstlo3.com | 发布时间:2024-04-11 17:24

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臭氧发生器在半导体领域有两大应用,其中臭氧水发生装置主要用于半导体前道工艺环节的湿法清洗,臭氧 气体发生装置可用于CVD和ALD等薄膜沉积环节及部分干法清洗环节。由于半导体产业转移及产业安全等要求,未来高端设备不论是整机自研、零部件配套等领域实现国产自主可控乃是大势所趋。

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